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1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)

更新時間: 2024-10-28

訪問次數(shù): 5715

產(chǎn)品報價:

產(chǎn)品簡介: 產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計,特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究,通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。

詳細(xì)資料:

1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品用途:

此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計,特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔

電極方面的研究,通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。

 

產(chǎn)品組成:

CVD系統(tǒng)配置:

1、1200度開啟式真空管式爐(可選配單溫區(qū)及雙溫區(qū))。

2、滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動,并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

3、內(nèi)外雙石英管,采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。

4、多路氣體流量控制系統(tǒng)(質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器)

5、真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)

 

1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品特點:

1、控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。

2、中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。

3、(電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設(shè)定的速度滑動,因有滑動限位功能,爐體不會發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。

4、雙管真空密封法蘭,反應(yīng)氣體可以在內(nèi)外管之間發(fā)生反應(yīng),冷卻氣體可通過內(nèi)管,從而使內(nèi)管外壁溫度降低。

產(chǎn)品圖片:

 

技術(shù)參數(shù):

系統(tǒng)名稱

1200℃雙管滑動式單/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)

系統(tǒng)型號

CVD-12II6SH-3Z/G

CVD-12III9SH-3Z/G

極限溫度

1200℃

加熱區(qū)長度

610mm

940mm

恒溫區(qū)長度

400mm

700mm

溫區(qū)

雙溫區(qū)

三溫區(qū)

石英管管徑

內(nèi)管:Φ80mm   外管:Φ100mm

額定功率

4.8Kw

7.2Kw

額定電壓

220V

380V(三相)

滑動距離

485mm

650mm

滑動方式

手動滑動/自動滑動(由溫度控制器自動控制移動,當(dāng)程序完成,爐子按設(shè)定的速度滑動)

溫度控制

國產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫;

控制精度

±1℃

爐管極限工作溫度

<1200℃

雙管法蘭連接

采用雙法蘭雙卡箍連接可擴展多功能,并且分別獨立對內(nèi)管和外管進行真空和氣體流量控制.密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術(shù),在密封法蘭與管外壁間形成了密封,在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效,該密封法蘭的安裝只需在*使用設(shè)備的時候安裝

氣體控制方式

質(zhì)量流量計

氣路數(shù)量

3路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量)

流量范圍

0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分,可選配)氮氣標(biāo)定

精度

±1%F.S

響應(yīng)時間

≤4sec

工作溫度

5-45℃

工作壓力

進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

系統(tǒng)連接方式

采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數(shù)顯真空測量儀

規(guī)格

高真空

系統(tǒng)真空范圍

1x10-3Pa-1x10-1Pa

真空泵

真空分子泵理論極限真空度
5x10-6Pa抽氣速率1600L/S
額定電壓220V 功率2Kw

爐體外形尺寸

480×770×605mm

410×1100×605mm

系統(tǒng)外形尺寸

530×1440×750mm(不含高真空)

系統(tǒng)總重量

340Kg

 

 
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